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半導體掩膜版行業(yè)全景洞察：產業(yè)鏈、市場與競爭格局

1、半導體掩膜版行業(yè)概況

半導體掩膜版是微電子制造過程中的關鍵材料，主要用于中高端半導體器件的生產，如集成電路、微機電系統(tǒng)（MEMS）、功率器件等。隨著全球半導體行業(yè)的快速發(fā)展，特別是5G、人工智能、物聯(lián)網等新興技術的興起，對高精度、高復雜度掩膜版的需求持續(xù)攀升。掩膜版行業(yè)的技術水平和發(fā)展直接關系到半導體芯片制造的質量與效率，是半導體產業(yè)鏈中不可或缺的一環(huán)。

半導體掩膜版是微電子生產中圖形傳遞的基礎模板，用于將電路圖案轉印至基材或晶圓，在半導體器件生產中至關重要。按基板材料分類，石英掩膜版用于高精度產品，應用于平板顯示和半導體制造；蘇打掩膜版用于中低精度產品，用于半導體、觸控和電路板制造；其他掩膜版（如菲林、凸版、干版）精度較低，主要用于液晶顯示和電路板制造。

2、半導體掩膜版行業(yè)產業(yè)鏈

產業(yè)鏈上游涵蓋掩?；?、光學膜等原材料及光刻機等設備制造，供應穩(wěn)定性影響行業(yè)發(fā)展，關鍵原材料和設備部分依賴進口。中游負責半導體掩膜版制作，技術更新快，市場周期性波動，對大尺寸和高精度掩膜版需求增長，中國廠商加速追趕但與國際頭部企業(yè)仍有差距。下游包括處理器、存儲器等產品制造，市場需求增長，國產掩膜版需求因產業(yè)轉移而增加，同時掩膜版承載關鍵知識產權，保護至關重要。

半導體掩膜版行業(yè)產業(yè)鏈情況

資料來源：普華有策

3、半導體掩膜版行業(yè)細分市場

（1）石英掩膜版

以高純石英玻璃為基材，具備高透過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)勢，常用于高精度掩膜版產品，在平板顯示制造和半導體制造領域應用廣泛。例如在半導體芯片制造中，對掩膜版精度要求極高，石英掩膜版能滿足其需求，確保芯片制造的高精度和高良品率。

隨著半導體、液晶面板等產業(yè)的快速發(fā)展，以及高端光學組件需求的不斷增加，石英掩膜版市場的需求將持續(xù)增長，市場規(guī)模也隨之擴大。

2020-2024年中國石英半導體掩膜版行業(yè)市場規(guī)模

資料來源：普華有策

（2）蘇打掩膜版

以蘇打玻璃為基材，蘇打玻璃光學透過率低于石英玻璃，熱膨脹系數(shù)更高、平坦度更低，常用于中低精度掩膜版產品，成本比石英掩膜版低很多。其應用于平板顯示、IC封裝等領域，2023年蘇打掩膜版市場規(guī)模達36.06億元，2024年超過40億元。

2020-2024年中國蘇打半導體掩膜版行業(yè)市場規(guī)模

資料來源：普華有策

（3）其他掩膜版

包括菲林、凸版、干版等。菲林以感光聚酯PET為基材，凸版以紫外固化聚氨酯類樹脂為基材，干版以鹵化銀等感光乳劑為基材，它們多應用于低精度掩膜版產品，主要用于液晶顯示制造和電路板制造等領域。如在一些對成本較為敏感、精度要求不高的液晶顯示產品制造中，菲林掩膜版因成本較低被廣泛使用。

4、半導體掩膜版行業(yè)規(guī)模及發(fā)展趨勢

隨著半導體技術發(fā)展，芯片制程工藝節(jié)點不斷推進，對掩膜版的需求隨之增長，如臺積電不同制程節(jié)點所需掩膜版層數(shù)不斷增加；技術進步與需求增長，半導體工藝不斷微縮，先進制程需求增加，對高精度掩膜版的需求持續(xù)攀升；政策支持與投資增加，政府出臺政策為半導體產業(yè)提供支持，促進本土掩膜版技術突破和產能提升；以及進口受限促使中國尋求國產替代，為國內掩膜版行業(yè)發(fā)展提供了需求支撐。

近年來得益于下游需求不斷增長，我國半導體掩膜版行業(yè)市場規(guī)模保持快速增長態(tài)勢，2020年半導體掩膜版行業(yè)市場規(guī)模為83.5億元，2024年約140億元。

2020-2024年中國半導體掩膜版行業(yè)市場規(guī)模

資料來源：普華有策

半導體掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢顯著，技術上精度不斷提升，線寬精度向更小尺寸發(fā)展，材料創(chuàng)新聚焦碳化硅等新材料，制造工藝持續(xù)優(yōu)化，自動化智能化升級；市場方面，新興技術如5G、人工智能等催生新需求，應用領域從集成電路、顯示面板拓展到傳感器等，市場規(guī)模因全球半導體產業(yè)擴張持續(xù)增長；國際巨頭在高端市場優(yōu)勢明顯，國內企業(yè)在中低端市場不斷突破，同時加強合作共同開拓市場。

5、政策監(jiān)管

國家出臺多項政策支持半導體掩膜版行業(yè)發(fā)展，如《新時期促進集成電路產業(yè)和軟件產業(yè)高質量發(fā)展的若干政策》等，通過稅收優(yōu)惠、研發(fā)補貼等措施，推動技術創(chuàng)新、產業(yè)升級和國產替代，為行業(yè)發(fā)展營造良好政策環(huán)境。

主要法律法規(guī)及政策

資料來源：普華有策

6、半導體掩膜版行業(yè)內主要企業(yè)

半導體掩膜版行業(yè)企業(yè)分為晶圓廠自建配套工廠和獨立第三方掩模廠商。前者如英特爾、三星、臺積電、中芯國際等，主要滿足自身先進制程需求；后者中美國Photronics、日本Toppan和日本DNP占據(jù)主導，國內清溢光電、路維光電等企業(yè)正加速追趕。

（1）美國Photronics

全球知名的獨立第三方掩模廠商，在高精度先進節(jié)點光罩領域表現(xiàn)突出，近年來不斷擴展EUV光罩生產能力。在全球石英鉻光罩市場占據(jù)重要地位，生產基地遍布全球主要地區(qū)，為全球半導體公司提供產品。

（2）日本HOYA

全球知名光罩供應商，在半導體光罩和平板顯示（FPD）光罩領域市場地位顯著。與臺積電及艾司摩爾合作開發(fā)EUV光罩，在EUV光刻技術方面行業(yè)領先，同時在FPD光罩的高精度產品（如高分辨率掩模和相移掩模）擁有一流市場份額。

（3）清溢光電

中國最早成立的掩膜版生產企業(yè)之一，技術處于國內領先水平，多次填補國內技術空白。長期專注自主創(chuàng)新，掌握多項核心工藝技術，產品涵蓋平板顯示和半導體等領域的掩膜版。

（4）路維光電

在高精度半導體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版領域具有一定優(yōu)勢，產品可滿足多種終端場景需求。2022年登陸上交所科創(chuàng)板，募資用于擴產項目，以提升產能和市場競爭力。

（5）中芯國際光罩

中芯國際的光掩模制造部門，提供二元鉻版光掩模和相位移動光掩模等制造服務，支持多種尺寸和曝光技術的光掩模生產。技術能力覆蓋從0.35微米到14納米各技術節(jié)點，正在積極擴張光罩制造能力。

（6）華潤微無錫迪思微電子

華潤微電子旗下企業(yè)，是中國光掩模制造行業(yè)領先者，專注為國內外晶圓代工廠和IC設計公司提供高端光掩模制造服務。技術覆蓋12英寸、8英寸、6英寸晶圓生產線，致力于提升掩模制程能力。

《2025-2031年半導體掩膜版行業(yè)細分市場分析及投資前景預測報告》涵蓋行業(yè)全球及中國發(fā)展概況、供需數(shù)據(jù)、市場規(guī)模，產業(yè)政策/規(guī)劃、相關技術、競爭格局、上游原料情況、下游主要應用市場需求規(guī)模及前景、區(qū)域結構、市場集中度、重點企業(yè)/玩家，企業(yè)占有率、行業(yè)特征、驅動因素、市場前景預測，投資策略、主要壁壘構成、相關風險等內容。同時北京普華有策信息咨詢有限公司還提供市場專項調研項目、產業(yè)研究報告、產業(yè)鏈咨詢、項目可行性研究報告、專精特新小巨人認證、市場占有率報告、十五五規(guī)劃、項目后評價報告、BP商業(yè)計劃書、產業(yè)圖譜、產業(yè)規(guī)劃、藍白皮書、國家級制造業(yè)單項冠軍企業(yè)認證、IPO募投可研、IPO工作底稿咨詢等服務。（PHPOLICY:GYF）